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非自耗真空電弧爐的應用范圍和特點(diǎn)

時(shí)間:2021-11-17 點(diǎn)擊:2467次

非自耗真空電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金。廣泛用于難熔金屬和高熔點(diǎn)金屬合金。適用于大專(zhuān)院校、科研院所真空冶煉新材料的科學(xué)研究和小批量制備。電弧熔煉真空室:真空室為立式圓柱形設計,結構美觀(guān)。側面有一個(gè)KF快接接口,用于安裝真空閥和輔助測量元件。真空室前面有一個(gè)小爐門(mén),側面敞開(kāi),便于裝卸。小爐門(mén)上設有觀(guān)察窗,方便熔煉時(shí)觀(guān)察爐內情況。上部為圓形密封雙層水冷爐蓋,帶有升降電極棒的孔。

非自耗真空電弧爐的使用特點(diǎn)

  1、爐體全不銹鋼設計,外形美觀(guān),不生銹。
  2、樣品可以多樣化:樣品可以是粉末、細絲、木屑和鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、淤泥等。
  3、熔化時(shí)間短:大多數金屬材料的加熱和重熔時(shí)間在一分鐘以?xún)取?br data-filtered="filtered" style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; appearance: none; margin: 0px;"/>  4、電弧熔煉可以使樣品充分混合。
  5、陽(yáng)極采用鎢電極;電極壽命長(cháng)。
  6、坩堝為銅制,同時(shí)水冷。
  7、使用惰性氣體保護,一般為普通氬氣,或結合真空方式。
  8、采用立式側門(mén)結構,結構新穎,裝卸方便,操作直觀(guān)。
  9、配備大口徑觀(guān)察窗,可實(shí)時(shí)觀(guān)察爐內熔煉情況。
  10、熔煉溫度高,溫度可達3500度以上。
  11使用電弧熔煉電源。
  12、桌面設計,操作方便。
  13、配備操作模擬屏,控制數據直觀(guān)顯示,操作直觀(guān)簡(jiǎn)單。
  14、高真空設計,真空度可達5×10E-4Pa及以上。
  15、自帶冷水機,到貨即用。
  16、使用過(guò)溫保護,加濾光玻璃保護眼睛。
  17、水冷銅電極可360度,操作靈活。同時(shí),水冷坩堝體積小,可更換,可定制。


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