非自耗真空電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金。廣泛用于難熔金屬和高熔點(diǎn)金屬合金。適用于大專(zhuān)院校、科研院所真空冶煉新材料的科學(xué)研究和小批量制備。電弧熔煉真空室：真空室為立式圓柱形設計，結構美觀(guān)。側面有一個(gè)KF快接接口，用于安裝真空閥和輔助測量元件。真空室前面有一個(gè)小爐門(mén)，側面敞開(kāi)，便于裝卸。小爐門(mén)上設有觀(guān)察窗，方便熔煉時(shí)觀(guān)察爐內情況。上部為圓形密封雙層水冷爐蓋，帶有升降電極棒的孔。

非自耗真空電弧爐的使用特點(diǎn)

　　1、爐體全不銹鋼設計，外形美觀(guān)，不生銹。
　　2、樣品可以多樣化：樣品可以是粉末、細絲、木屑和鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、淤泥等。
　　3、熔化時(shí)間短：大多數金屬材料的加熱和重熔時(shí)間在一分鐘以?xún)取?br data-filtered="filtered" style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; appearance: none; margin: 0px;"/>　　4、電弧熔煉可以使樣品充分混合。
　　5、陽(yáng)極采用鎢電極；電極壽命長(cháng)。
　　6、坩堝為銅制，同時(shí)水冷。
　　7、使用惰性氣體保護，一般為普通氬氣，或結合真空方式。
　　8、采用立式側門(mén)結構，結構新穎，裝卸方便，操作直觀(guān)。
　　9、配備大口徑觀(guān)察窗，可實(shí)時(shí)觀(guān)察爐內熔煉情況。
　　10、熔煉溫度高，溫度可達3500度以上。
　　11使用電弧熔煉電源。
　　12、桌面設計，操作方便。
　　13、配備操作模擬屏，控制數據直觀(guān)顯示，操作直觀(guān)簡(jiǎn)單。
　　14、高真空設計，真空度可達5×10E-4Pa及以上。
　　15、自帶冷水機，到貨即用。
　　16、使用過(guò)溫保護，加濾光玻璃保護眼睛。
　　17、水冷銅電極可360度，操作靈活。同時(shí)，水冷坩堝體積小，可更換，可定制。