真空懸浮熔煉爐用途:
真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法,是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進(jìn)行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮,熔池與坩堝壁保持非接觸,使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點(diǎn)金屬及其合金的熔煉主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬,
真空懸浮熔煉爐小型懸浮爐實(shí)驗用懸浮爐設備特點(diǎn)
1·真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無(wú)接觸冶煉,干凈無(wú)污染。
2·冶煉溫度高,專(zhuān)門(mén)應用于高熔點(diǎn)難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮IGBT電源,配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。
4·可鍋底成型或者澆鑄鑄造成型。
5·熔煉溫度高,可用于2000度及以上高溫金屬及合金的熔煉制備
采用臥式爐體,側部開(kāi)門(mén)結構,進(jìn)出料方便,爐體結構緊湊,占地空間較小。坩堝反映較強烈的材料(如鈦及其合金)更顯示出其優(yōu)勢。在工業(yè)上廣泛應用于鈦、鋯及其合金的熔鑄。真空懸浮爐是為材料科學(xué)科研而設計的,是一種專(zhuān)用的現代化高純度熔煉設備。
二、主要技術(shù)參數
1、額定功率:30-200Kw
2、容量(以鐵計):10g-5kg
3、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
4、分瓣冷坩堝:8-32瓣
5、冷態(tài)極限真空度:5Pa~6.7*10-4帕以下